《半導体等の歩留り向上！》　光ｴﾈﾙｷﾞｰで高度な表面処理！SSP2003N

光のエネルギーで《高度な表面改質》＆《ドライ洗浄》！

集積度の高い先端技術製品の製造には、
超微細加工に適合する新しい技術が必要です。

短波長紫外線には、
固体表面の改質や洗浄に優れた能力があります。

紫外線とオゾンを使う光表面処理技術は、
今や《半導体・液晶表示素子》などの電子部品の
製品歩留りを向上させるには欠かせない新しい技術です。

しかも、溶剤などを使用せずにドライに処理できるので、
《環境問題にも貢献する時代に適したクリーンな技術》です。



◎光表面処理技術のメリット
　・大気中での処理が可能で扱いが容易
　・ランプの形状や搬送の工夫により、
　　　様々な形状のワークに対応可能
　・他の処理方法に比べ平滑性を損なわずに接着性の向上が可能
　・低ランニングコスト

◎用途・実施例
　☆樹脂
　　・各種表面のぬれ性改善目的
　　・各種材料への接着剤、塗料、コーティング材との密着力向上
　　・各種自動車部品への前処理用途
　　・フィルム材料、積層材料への前処理用途
　　・各種基盤材料前処理用途
　　・メッキ前処理用途
　　・蒸着前処理用途
　　・絶縁材料塗布前処理用途

　☆金属・ガラス等
　　・各種表面のぬれ性改善用途
　　・各種表面の洗浄用途
　　・レジストの光アッシング用途
　　・ワイヤーボンティング前処理用途
　　・メッキ前処理用途

☆テストピースをお送りいただければ、簡単に効果を確認致します！ぜひご相談ください！
☆詳しい内容を知りたい場合はカタログ請求をご活用ください！


↓↓　本ページでの商品紹介　↓↓

【卓上型光表面処理装置　SSP2003N】
（光源面寸法350×320mmの片側開き扉式装置）

☆SSP16-110やSSP17-110に比べ、
　より大きなワークに適した卓上型実験機！

☆少量生産用の生産機としても使用可能！

☆片側開き扉で照射距離5-150mmの範囲で調整可能！

☆別置き電源とブロワが付属！

☆ダンパでオゾン濃度を調節可能！

※リンク先は、SSP2003Nより小さ目の実験機、SSP16-110へのリンクとなります。